可能性是有的，以前三星和台积电也是用这种型号的光刻机生产7纳米的芯片，只是良率低，成本高！不过现在没办法拿到更先进的光刻机，只能这么干了！
是国产7纳米芯片量产，不是说国产7纳米光刻机量产。中国文字博大精深。
中国想要独立造出光刻机并不难，难的是制造高精度的光刻机，就是可以制造7纳米5纳米 3纳米芯片的那种
中国离世界之巅还有多远? 先看世界最关键的十二大科技： 1.光刻机 荷兰阿斯麦尔(ASML)光刻机已能生产用于7纳米(m)的芯片，中国的光刻机仅能生产90纳米(m)芯片，与荷兰差距超过十年。 2.刻蚀机 刻
希望再接再励，做出中国自己的14纳米，7纳米，3纳米，1纳米光刻机。。。。。。
说是纯国产7纳米euv光刻机已经快被攻坚下来了，还据说2025就能下线。好家伙！duv还没等来量产，euv都快要生产出来了，希望这是真的。还有，届时光刻机、反射镜也能完全国产化，如果这样的话，结合华为叠加工艺，直接就可以干到1-2m的芯片流片，而按照台积电、三星马上量产3m的速度来算，三年后基
打破芯片困境，用一个笨招行不行？似乎中国现在芯片困境最大的阻碍在“光刻机”，以7纳米光刻机为例，它大约有10万个零件。荷兰ASML的EUV（极紫外）光刻机也不是它自己生产零件，都是全世界配套。那是不是意味着只要中国能生产出所有这10万个零件，再加上配套的软件就完全攻克了光刻机难题？有一